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浸没式光刻机进场 晶瑞股份ArF光刻胶研发提速

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发表于 2021-1-20 10:40:01 | 显示全部楼层 |阅读模式
  1月19日上午,在苏州纳米科技园,晶瑞股份举行了光刻机搬入仪式。公司本次购置的是先进的阿斯麦(ASML)XT 1900Gi 浸没式光刻机。在业内人士看来,这标志着晶瑞股份在高端光刻胶研发上揭开新篇章,公司将加快实现光刻胶产品应用于12英寸芯片生产线的战略布局。
  “浸没式光刻机是高端光刻胶研发的关键设备,尽管投入巨大,晶瑞股份还是下定决心购买。”对于购置该光刻机,晶瑞股份董事长吴天舒在现场讲话中介绍,为解决集成电路制造领域关键材料“卡脖子”问题,加速高端ArF光刻胶研发,建立研发平台,公司后续还将购置其他相关辅助设备,并尽早完成设备的安装调试,投入使用。
  记者了解到,在多方努力下,晶瑞股份克服重重干扰和困难,仅仅用了不到4个月,就完成了该光刻机的交易,并顺利将其搬入高端光刻胶实验室。
  回溯公告,晶瑞股份于2020年9月29日披露,为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,公司拟斥资1102.5万美元购买一台ASML光刻机。
  晶瑞股份是国内最早进行光刻胶研发和产业化的公司之一,拥有28年的产业积累。资料显示,早在1993年,晶瑞股份全资子公司苏州瑞红就开启了光刻胶研发,并承担完成了国家重大科技项目02专项“i 线光刻胶产品开发及产业化项目”。目前,晶瑞股份的i 线光刻胶已向多家半导体头部公司供货;公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段。

  据了解,随着芯片跨入纳米级,半导体光刻胶的波长在不断缩短,已经由紫外宽谱逐步发展到g 线(436nm)、i 线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、ArF Immersion 浸润式,以及最先进的EUV(
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发表于 2021-1-21 06:42:35 | 显示全部楼层
是爷们的娘们的都帮顶!大力支持
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发表于 2021-1-21 17:51:05 | 显示全部楼层
站位支持
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发表于 2021-1-22 10:41:10 | 显示全部楼层
路过,学习下
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 楼主| 发表于 2021-1-22 19:56:46 | 显示全部楼层
顶起顶起顶起
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发表于 2021-1-23 09:57:16 | 显示全部楼层
我也来顶一下..
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发表于 2021-1-23 18:33:04 | 显示全部楼层
相当不错,感谢无私分享精神!
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发表于 2021-1-24 10:36:00 | 显示全部楼层
我是来刷分的,嘿嘿
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发表于 2021-1-24 19:20:18 | 显示全部楼层
看起来不错
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